日本分光学会と共催で、以下の要項で開催します。多数ご参加をお待ちしております。

日程： 2017年5月24日（水）・25日（木）
会場： 早稲田大学西早稲田キャンパス63号館　〒169-8555 新宿区大久保3-4-1
https://www.waseda.jp/fsci/
参加費： 分光学会年会の参加登録費をお支払いください。

プログラム：

5月24日　17:10-18:10  (司会　濵口宏夫)
分光学俯瞰講義　

澤田嗣郎　（東京大学名誉教授，分光学会元会長）
「フォトサーマルスペクトロスコピーと共に歩んで５０年」

 

5月24日　14:50-16:50　(司会　鈴木榮一郎)
分光学キャリアパスシンポジウム　

内藤康彰　（特許庁）
「知的財産の観点における基礎研究の重要性」

谷口秀哉（アオイ電子）
「分光イメージングの新たな展開─手のひらサイズの中赤外分光イメージング装置
（ハイパースペクトルカメラ）の開発と実用化」

菅野真代　（大日本印刷）
「印刷業における分光分析技術の活用」

 

5月25日　9:30-12:10  (司会　田原太平)
分光学夢シンポジウム

坂本　章（青山学院大学理工学部）
「これまでに行ってきたこと，これから行いたいこと：不安定な分子種を中心にして」

田邉一郎（大阪大学基礎工学部）
「遠紫外分光法の機能性材料への展開」

石内俊一　（東京工業大学化学生命科学研究所）
「分子認識系に対する気相分光ボトムアップアプローチ」

河野淳也　（学習院大学理学部）
「液滴衝突反応の観測－溶液反応の高速解析をめざして」